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退火炉

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退火炉

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  • 发布日期:2019/09/30
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退火炉


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  退火炉是用于小型熔炼炉制造半导体器件的工艺,包括加热几个半导体晶片以影响其电性能。热处理是为不同的效果而设计的。可以加热晶片以激活掺杂剂,将薄膜转换成薄膜或薄膜,形成晶片衬底界面,从而可以改变致密沉积的薄膜,改变生长薄膜的状态,可以修复注入损伤,掺杂剂可以被移动或掺杂剂可以从一个膜转移到另一个膜或从薄膜转移到晶片衬底上。高频熔锡炉和退火炉可以集成到其他炉处理步骤,如氧化,或可以自己处理。退火炉是为半导体晶片加热而设计的。退火炉是一种节能的周期性操作炉,具有超强的节能结构和纤维结构,节约了60%的电能。


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